Imagínese poder almacenar miles de canciones e imágenes de alta resolución en dispositivos de datos del tamaño de una uña. Investigadores del Instituto de Investigación e Ingeniería de Materiales (IMRE) de A * STAR y la Universidad Nacional de Singapur (NUS) han descubierto que una superficie ultra lisa es el factor clave para el "autoensamblaje".
El autoensamblaje es económico, alto volumen, técnica de modelado de alta densidad. Permite a los fabricantes utilizar el método en una variedad de superficies diferentes. Este descubrimiento allana el camino para el desarrollo de dispositivos de almacenamiento de datos de próxima generación, con capacidades de hasta 10 Terabits / in2, lo que podría conducir a un almacenamiento significativamente mayor en dispositivos de datos mucho más pequeños.
La técnica de "autoensamblaje" es uno de los métodos de alto volumen más simples y económicos para crear uniformes, nanoestructuras densamente empaquetadas que potencialmente podrían ayudar a almacenar datos. El autoensamblaje es uno de los principales candidatos para la nanofabricación a gran escala con densidades de patrón muy altas. Una de sus aplicaciones más obvias estará en el campo de los medios con patrones de bits, o la industria del disco duro. Es ampliamente utilizado en investigación y está ganando aceptación en la industria como una herramienta litográfica práctica para sub-100 nm, bajo costo, patrón de área grande. Sin embargo, intenta emplear el autoensamblaje en diferentes tipos de superficies, como los medios magnéticos utilizados para el almacenamiento de datos, han mostrado resultados variables y erráticos hasta la fecha. Este fenómeno ha seguido desconcertando a los investigadores y científicos de la industria a nivel mundial.
Los investigadores de IMRE y NUS de A * STAR ahora han resuelto este misterio e identificado que cuanto más suave es la superficie, más eficiente será el autoensamblaje de nanoestructuras. Este avance permite que el método se utilice en más superficies y reduzca el número de defectos en un entorno industrial. Cuanto más densamente empaquetadas estén las estructuras en un área determinada, cuanto mayor sea la cantidad de datos que se pueden almacenar.
"Una altura cercana a los 10 átomos, o 10 angstroms en términos técnicos, es todo lo que se necesita para hacer o deshacer el autoensamblaje, "explicó el Dr. MSM Saifullah, uno de los investigadores clave del IMRE de A * STAR que hizo el descubrimiento. Esto se basa en una rugosidad superficial media cuadrática de 5 angstrom. El equipo descubrió que este era el límite de rugosidad de la superficie permitido para el autoensamblaje exitoso de puntos, que eventualmente podría usarse para hacer almacenamiento de datos de alta densidad. "Si queremos una gran escala, nanopatrones de gran superficie utilizando un autoensamblaje muy asequible, la superficie debe ser extremadamente lisa para que podamos lograr eficientes, autoensamblaje exitoso y con menor incidencia de defectos ".
El descubrimiento fue publicado recientemente en Informes científicos , una revista de acceso abierto de Naturaleza.
