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    El método de creación de patrones podría allanar el camino para nuevos dispositivos basados ​​en fibra, textiles inteligentes

    Crédito:Sociedad Química Estadounidense

    Fibras multimateriales que integran metal, el vidrio y los semiconductores podrían ser útiles para aplicaciones como biomedicina, textiles inteligentes y robótica. Pero debido a que las fibras están compuestas por los mismos materiales a lo largo de su longitud, es difícil posicionar elementos funcionales, como electrodos o sensores, en ubicaciones específicas. Ahora, investigadores que informan en Ciencia Central ACS han desarrollado un método para modelar fibras multimateriales de cientos de metros de largo con elementos funcionales incrustados.

    Youngbin Lee, Polina Anikeeva y sus colegas desarrollaron un polímero tiol-epoxi / tiol-eno que podría combinarse con otros materiales, calentado y extraído de un modelo a macroescala en fibras que se recubrieron con el polímero.

    Cuando se expone a la luz ultravioleta, el polímero, que es fotosensible, reticulado en una red que era insoluble en disolventes comunes, como la acetona.

    Al colocar "máscaras" en lugares específicos a lo largo de la fibra en un proceso conocido como fotolitografía, los investigadores pudieron proteger las áreas subyacentes de la luz ultravioleta. Luego, quitaron las máscaras y trataron la fibra con acetona.

    El polímero en las áreas que se habían cubierto se disolvió para exponer los materiales subyacentes. Como prueba de concepto, los investigadores hicieron patrones a lo largo de las fibras que exponían un filamento conductor de electricidad debajo del revestimiento de tiol-epoxi / tiol-eno.

    El polímero restante actuó como aislante a lo largo de la fibra.

    De este modo, Los electrodos u otros microdispositivos podrían colocarse en patrones personalizables a lo largo de fibras multimaterial, dicen los investigadores.


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