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  • Las nanohojas de óxido triunfan sobre los materiales de condensadores actuales de última generación

    Ilustración esquemática (izquierda) e imagen TEM de alta resolución de sección transversal (derecha) del condensador ultrafino de nanohojas.

    La electrónica es cada vez más pequeña pero hay un límite en cuanto a lo pequeños que pueden llegar a ser con los materiales actuales. Takayoshi Sasaki y colaboradores del Centro Internacional de Nanoarquitectónica de Materiales, El Instituto Nacional de Ciencia de Materiales y la Universidad Shinshu de Japón han desarrollado una forma de reducir los condensadores, componentes clave que almacenan energía, Aún más, que podría acelerar el desarrollo de más compactos, Dispositivos de próxima generación de alto rendimiento.

    Muchas mejoras recientes ya han reducido significativamente el tamaño de los condensadores. Pero la tecnología actual casi ha llegado a su límite en términos de materiales y procesamiento, lo que a su vez limita el rendimiento que pueden lograr los fabricantes. En respuesta, los investigadores han pasado a la nanoescala, pero los "nanocondensadores" no son fáciles de fabricar.

    El equipo de Sasaki desarrolló un enfoque similar al de LEGO, y lo aplicaron para fabricar condensadores ultrafinos de alto rendimiento. Usaron Ru conductivo 0,95 O 2 0,2- y Ca dieléctrico 2 Nótese bien 3 O 10- nanohojas como componentes centrales del dispositivo. Al utilizar el ensamblaje basado en soluciones, crearon un sándwich que consta de capas de dos tipos diferentes de nanohojas de óxido para producir un condensador ultrafino. El nuevo capacitor tiene una densidad de capacitancia estable (~ 27.5μF cm -2 ), que es 2, 000 veces superior a la de los productos comerciales actualmente disponibles.

    Ven una serie de posibles extensiones del trabajo actual y concluyen, "Las variedades prácticamente infinitas de nanohojas de óxido, que se puede utilizar para ensamblar varias arquitecturas de nanohojas, sugieren que las heterointerfaces 2D ofrecerán una versatilidad sin precedentes para la realización de nuevos estados 2D y dispositivos de película molecularmente delgada incluso más allá del grafeno ".


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