Una colaboración entre el Grupo de Dispositivos y Materiales Electrónicos y Magnéticos de CNM y la División de Sistemas de Energía de Argonne ha llevado a una forma completamente nueva de fabricar nanomateriales funcionales bidimensionales y tridimensionales.

Su enfoque combina el autoensamblaje de copolímeros de bloque con el proceso autolimitante y selectivo de deposición de la capa atómica.

Al elegir las químicas adecuadas de polímeros y precursores de deposición, Se puede lograr una deposición altamente selectiva en la que el material inorgánico crece dentro de solo uno de los bloques de polímero.

Mediante el diseño racional de copolímeros de bloque y la selección de parámetros de deposición, materiales de diseño estampados con tamaño controlado, espaciado, simetría, y la composición se puede sintetizar.

Las aplicaciones potenciales de este método se extienden a prácticamente todas las tecnologías en las que son deseables estructuras periódicas de nanomateriales.