Investigadores de la Universidad de Toronto, dirigidos por el Dr. Amr S. Helmy, han desarrollado un nuevo método para integrar SiO2 electroóptico /ITO heterointerfaces en estructuras de metal-aislante-semiconductor (MIS). Se espera que este avance conduzca al desarrollo de dispositivos fotónicos más eficientes y compactos.
"Nuestro enfoque presagia el desarrollo de moduladores de guía de ondas plasmónicas compatibles con CMOS", dijo el Dr. Nasir Alfaraj, autor principal del estudio y becario postdoctoral KAUST Ibn Rush en la Universidad de Toronto. "Esto tendrá un profundo impacto en una amplia gama de aplicaciones, incluidas las telecomunicaciones, el almacenamiento de datos y las imágenes médicas".
El novedoso método consiste en hacer crecer una fina capa de sílice (SiO2 ) encima de ITO. Esto crea una heterointerfaz que permite un importante confinamiento de la luz y una modulación electroóptica.
"El SiO2 /ITO, junto con la integración de un Schottky Al/SiO2 "La unión y la pila MIS son un componente clave de nuestro dispositivo de guía de ondas ópticas", explicó el Dr. Helmy, investigador principal de este estudio. "Nos permite ajustar las propiedades ópticas de la capa de ITO mediante un campo eléctrico".
En su artículo publicado en Light:Advanced Manufacturing , investigadores del Departamento de Ingeniería Eléctrica e Informática Edward S. Rogers Sr. de la Universidad de Toronto demostraron la eficacia de su nuevo método mediante la fabricación de dos dispositivos MIS. El primer dispositivo empleó un SiO2 Heteroestructura de /ITO cultivada sobre nitruro de titanio policristalino delgado (poli-TiN) y cubierta en el lado de ITO con un electrodo de contacto de película delgada de aluminio (Al). El segundo dispositivo es una guía de ondas óptica que incorpora una capa semiconductora de ITO con SiO2. Espaciador dieléctrico implementado en una plataforma de silicio sobre aislante (SOI).
El Dr. Charles Chih-Chin Lin, uno de los coautores del estudio, comentó:"Esta investigación marca un avance significativo en el campo de la plasmónica. Creemos que tiene el potencial de revolucionar la forma en que diseñamos y fabricamos dispositivos fotónicos".
El Dr. Swati Rajput, otro coautor del estudio, añadió:"El desarrollo de guías de ondas plasmónicas compatibles con CMOS es un paso fundamental hacia la realización de la próxima generación de dispositivos ópticos. Nuestra investigación proporciona un camino prometedor para lograr este objetivo". /P>
Sherif Nasif, tercer coautor del estudio, comentó:"Estamos entusiasmados con las posibles aplicaciones de esta tecnología. Visualizamos un futuro en el que las guías de ondas plasmónicas desempeñarán un papel fundamental en una amplia gama de industrias, incluidas las telecomunicaciones, la atención sanitaria, y fabricación."
El nuevo método del investigador supera el desafío de integrar estructuras plasmónicas en la tecnología CMOS utilizando SiO2 /Heterointerfaces ITO. ITO es un óxido conductor transparente compatible con la tecnología CMOS. SiO2 es un material dieléctrico que se utiliza comúnmente en dispositivos CMOS. El SiO2 La heterointerfaz /ITO proporciona un fuerte campo eléctrico que se puede utilizar para modular la propagación de la luz en la guía de ondas plasmónica.
Ambos dispositivos mostraron un rendimiento excelente. La guía de ondas moduladora de luz tenía una relación de extinción (ER) superior a 1 dB/μm y una pérdida de inserción (IL) inferior a 0,13 dB/μm para una longitud de guía de ondas de 10 μm. El segundo dispositivo logró modulación de amplitud, fase o amplitud de 4 cuadraturas.
La investigación del equipo es un importante paso adelante en el desarrollo de guías de ondas plasmónicas compatibles con CMOS. Su nuevo método potencialmente hará que las guías de ondas plasmónicas sean más prácticas para una gran cantidad de aplicaciones.
"Nuestros resultados demuestran el potencial del SiO2 /ITO para la modulación de guías de ondas plasmónicas compatibles con CMOS", afirmó el Dr. Alfaraj. "Creemos que esta tecnología podría utilizarse para desarrollar una nueva generación de dispositivos fotónicos".
"Estamos muy entusiasmados con el potencial de esta nueva tecnología", afirmó el Dr. Helmy.
Más información: Nasir Alfaraj et al, Fácil integración de SiO electroóptico2 /Heterointerfaces ITO en estructuras MIS para modulación de guías de ondas plasmónicas compatibles con CMOS, Luz:fabricación avanzada (2023). DOI:10.37188/lam.2023.038
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