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  • Mejora de la caracterización del dispositivo y el proceso de la electrónica impresa

    Una micrografía óptica (capturada en la estación de inspección de Advantech). El defecto es visible como una característica oscura en los límites de dos depositados secuencialmente, es decir, capas de película delgada apiladas. Crédito:Advantech US / MCL

    Advantech EE. UU., Inc. es una empresa de tecnología con sede en Pittsburgh que utiliza un proceso de máscara de sombra de fabricación de aditivos ecológicos para construir componentes electrónicos y conductores de línea fina mediante la deposición de materiales a granel vaporizados, como metales, sobre varios sustratos rígidos y flexibles. Al construir componentes capa por capa, Advantech puede crear dispositivos complejos con características en el rango de tamaño de 3 a 50 micrómetros, llenar una brecha de tamaño importante entre la litografía a nanoescala y la fabricación de placas de circuito impreso, con importantes beneficios de costes, amplia flexibilidad de diseño, pasos de procesamiento más simples, y uso reducido de material. Sus productos incluyen placas posteriores de pantalla de matriz activa para ePaper y pantallas OLED.

    En el laboratorio de nanofabricación de Penn State, plomo de grabado y deposición Guy Lavallee, trabajando con el ingeniero de investigación y desarrollo Chad Eichfeld y el ingeniero de procesos de litografía Michael Labella, fabricó con éxito un prototipo de máscara de silicona grabada con las características requeridas a escala micrométrica. Se está desarrollando un segundo prototipo con características de alineación fina.

    El proceso de evaporación de Advantech puede depositar metales, dieléctricos y semiconductores que utilizan miniLineTM, un sistema de deposición al vacío multicámara en línea. A veces, sin embargo, contaminación de partículas inesperada

    afecta el rendimiento de los dispositivos electrónicos del tamaño de un micrómetro depositados. Vince Bojan y Julie Anderson, del Laboratorio de Caracterización de Materiales, están usando el microscopio electrónico de barrido y un espectrómetro electrónico Auger de barrido para identificar los elementos químicos en los contaminantes y así identificar la fuente de tales defectos que limitan el rendimiento. Juntos, Los dos laboratorios están ayudando a una empresa de Pensilvania a expandirse hacia el mercado de circuitos y dispositivos microelectrónicos altamente competitivo con un sistema más simple, proceso más económico.

    El científico sénior de Advantech, Volker Heydemann, dijo lo siguiente sobre el trabajo con resonancia magnética:"Es extremadamente útil identificar la química de los contaminantes en nuestros productos. Vince Bojan y Julie Anderson en el Laboratorio de Caracterización de Materiales obtuvieron resultados útiles en solo un par de días. son verdaderos expertos en microscopía electrónica y espectroscopía. La oportunidad de aplicar las capacidades de procesamiento de Nanofab con las técnicas y la experiencia avanzadas de caracterización de materiales de MCL proporciona información sobre nuestro proceso más allá de las capacidades de nuestro conjunto interno de herramientas de prueba y garantía de calidad. Nuestro proyecto con Penn State ayudó a identificar y mejorar los pasos críticos en nuestro proceso de fabricación ".

    • Imagen de un electrón secundario adquirido con el instrumento AES (Auger). Estas imágenes se utilizaron para seleccionar regiones para el análisis de composición; un ejemplo es el cuadro que muestra un área de muestra para la espectroscopia Auger. Crédito:Advantech US / MCL

    • Imagen SEM del defecto a mayor aumento en el instrumento AES utilizado para determinar la composición elemental local. Crédito:Advantech US / MCL




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